系统介绍

半导体行业在芯片制程工艺中，因其不间断使用有机溶剂和酸溶液直接产生了大量的有毒有害的废气，且需经过废气处理达标后才能高空排放。本次为您带来格林斯达环保集团为中芯国际、中芯北方、中芯南方等众多半导体知名企业研发生产销售安装的半导体厂酸碱排气系统。

（格林斯达环保集团为半导体厂安装的酸碱排气系统）

半导体厂酸碱排气系统

半导体行业芯片主要工艺制程中使用和产生废气的来源和处理工艺，如下表所示：

半导体行业产生的废气通过分类密闭收集处理，有酸性废气、碱性废气、有机废气、一般尾气等。处理系统有机台端的POU本地处理和厂务端（Fab）中央处理系统；如热氧化、CVD、干法刻蚀、离子注入等工艺制程中会产生特性气体（硅烷、砷烷、磷烷、全氟烃、含卤素气体等有毒和高沸点废气），先经本地Local Scrubber预处理，后经入厂务端的中央处理系统集中处理。中央处理系统集中处理有酸性废气处理系统（SEX）、碱性废气处理系统（AEX）、有机废气处理系统（VEX）、砷排处理系统（ASX）、一般排气系统（GEX）等，其中一般排气系统所排废气无污染，起排风散热作用。

1、Local Scrubber预处理

Local Scrubber预处理可避免从排气过程中引发风管堵塞、管路腐蚀、局部聚积或气体相互反应，导致气体泄漏、火灾爆炸等事故。 Local Scrubber的处理方法有燃烧水洗、高温水洗、等离子水洗、干法吸附等。经Local Scrubber处理后的废气主要为氟化物、氯化氢、氯气等，进入厂务端酸性废气系统集中处理。

（格林斯达环保集团酸碱排气系统 - Local Scrubber）

2、酸碱洗涤塔

酸性废气来源于清洗、溅射、湿法刻蚀、湿法去胶和经Local Scrubber处理后的工艺废气，其主要组成为HF、HCl、Cl2、H2SO4、SO2等。碱性废气主要来源于清洗、湿法刻蚀、光刻显影、去胶、CMP等工艺，污染物为NH3、NaOH等。碱性废气处理工艺也采用喷淋洗涤处理，常用吸收液为H2SO4溶液。

（格林斯达环保集团酸碱排气系统 - 酸碱洗涤塔）

3、有机废气处理系统

半导体行业排放的VOCs废气具有风量大，浓度低的特点，其风量通常大于11 000 m3/h，浓度大约在50~1 000mg/m3之间（以非甲烷总烃计）。常用的处理技术为活性炭吸附和沸石浓缩转轮+焚烧，经调研分析现有企业以沸石浓缩转轮+焚烧技术处理为主。焚烧技术有蓄热式燃烧（RTO）和直接燃烧（TO），效率都可达≥95%，但会消耗大量电力和天然气，增加CO2排放。

（格林斯达环保集团酸碱排气系统 - 沸石转轮+TO）

4、砷排处理系统

含砷废气来源掺杂制程工序，废气包括砷烷、磷烷和硼烷。目前随着国家及各地区环保排放标准越来越严格，在含砷系统Local Scrubber预处理后在Fab中央端再次进行干式吸附，常用设备为砷磷烷吸附塔，吸附后通过末端风机负压达标排放。  砷烷等与吸附剂发生化学吸附、复分解等反应，生成稳定的无毒无害的化合物，吸附剂是砷排系统的关键之重。

（格林斯达环保集团酸碱排气系统 - 砷磷烷吸附塔）

以上就是格林斯达环保集团半导体厂酸碱排气系统的全部介绍，格林斯达环保集团，泛半导体产业工艺废气治理系统解决方案提供商。如您有半导体产业废气治理（定制方案/采购系统设备）需求，即刻联系我们吧！服务热线：138-1114-8535（同微信）/ 400-9655-098。